65.3 高真空控压摆阀
65.3 高真空控压摆阀（真空摆阀），可优化半导体与显示器系统中的下游压力控制和隔离 控压摆阀设定了下游压力控制和隔离的新标准。该系列控压摆阀专为半导体和显示器生产系统而设计。
真空摆阀 · 高真空控压摆阀
公称通径：DN 100 (4"), DN 160 (6"), DN 200 (8"), DN 250 (10"), DN 320 (12"), DN 350 (14")|压力范围：铝 硬质阳极氧化铝，1 × 10 -8 mbar to 1.2 bar (绝对压强) 1 × 10 -6 mbar to 1.2 bar (绝对压强)|驱动器：带集成压力控制器的步进电机|法兰：ISO-F, JIS
阀体材料：铝：铝或硬质阳极氧化铝|密封：阀盖、阀板、 阀体馈通件，氟橡胶|安装位置：任何位置
用途：可优化半导体与显示器系统中的下游压力控制和隔离 65.3 控压摆阀设定了下游压力控制和隔离的新标准。该系列控压摆阀专为半导体和显示器生产系统而设计，可在较宽的流导范围内提供最高水平的可控性。65.3 控压摆阀配备带有集成位置控制的电机，可提供改进功能。 驱动器控制器具有更高的 32 位数据处理能力，可提供全新可控性。这意味着可以非常快速、精细和准确地控制钟摆阀板的各个位置，从而在极短的响应时间内实现非常精确的下游压力控制。阀门的预设运动序列可根据各种不断变化的工艺参数，对速度和路线进行调整。65.3 控压摆阀还可防止粒子释放。阀板经过优化的阻尼关闭运动可避免传统阀门常见的冲击和振动。65.3 控压摆阀的闭合顺畅无碍，几乎察觉不到关闭和打开。阀板提供非常精确的机械引导，可确保往复运动中的无接触气流控制，并在密封运动的所有区域内实现均匀的密封。
